特許

J-GLOBAL ID：200903042947655493

カルバペネム誘導体の製造法およびその中間体

発明者： 村田 正好 ,  笠原 千義 ,  津々美 秀雄 ,  村上 佳裕
出願人/特許権者： 藤沢薬品工業株式会社
代理人 (1件)： 関 英男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-022575
公開番号（公開出願番号）：特開平7-002857
出願日： 1994年02月21日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 カルバペネム誘導体の工業的製造法、ならびに当該製造法において使用される重要な中間体を提供する。【構成】 一般式(IV)で表わされる化合物およびその製造法、ならびに式(IV)の化合物を環化反応に付して一般式(I)で表わされる化合物またはその塩を得ることより成る、カルバペネム誘導体を製造する方法。[式中、R1は(保護された)カルボキシ;R2は(保護された)ヒドロキシ低級アルキル;R3は水素または低級アルキル;R4は低級アルキル、低級アルケニル、ベンジル(置換基を有する)アリール、(置換基を有する)複素環基等の有機基;R5,R6,R7は低級アルキル等;をそれぞれ示す]

請求項（抜粋）：

一般式:【化1】[式中、R1 はカルボキシまたは保護されたカルボキシ、R2 はヒドロキシ(低級)アルキルまたは保護されたヒドロキシ(低級)アルキル、R3 は水素または低級アルキル、R4 は有機基、R5 、R6 およびR7 は各々低級アルキル、低級アルコキシ、1個以上の適当な置換基を有していてもよいアリール、または、式:【化2】(式中、R8 およびR9 は各々低級アルキル、または1個以上の適当な置換基を有していてもよいアリールを表わす)で示される基をそれぞれ表わす。ただし、R5 、R6 およびR7 は同時に同一とはならないものとする]で表わされる化合物またはその塩。

IPC (4件)：

C07D477/00 ,  C07D205/08 ,  C07F 9/568 ,  A61K 31/40 ADZ

FI (2件)：

C07D487/04 134 ,  C07D205/08 K