特許
J-GLOBAL ID:200903043082225834

[1,3]ジセレノール-2-チオンの新規製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  遠山 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-054846
公開番号(公開出願番号):特開2004-262839
出願日: 2003年02月28日
公開日(公表日): 2004年09月24日
要約:
【課題】セレン化水素ガス、及び二セレン化炭素などを使用しない、より安全な[1,3]ジセレノール-2-チオンの新規製造方法を提供する。【解決手段】下記の式:【化1】で示される2-チオキソ-[1,3]ジセレノール-4,5-ジカルボン酸にMeL(式中、Meはメチル基を示し;Lは脱離基を示す)で表されるメチル化剤を添加して反応させ、下記の一般式(I):【化2】(式中、Me及びLは前記と同義である)で表される(4-カルボキシ-[1,3]ジセレノール-2-イリデン)-メチルスルホニウム塩を生成させ、次いで塩基性の含窒素複素6員環化合物を添加して反応させることを特徴とする、[1,3]ジセレノール-2-チオンの製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記の式:
IPC (1件):
C07D345/00
FI (1件):
C07D345/00

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