特許

J-GLOBAL ID：200903056366915487

エチレンオキシド製造用触媒及びエチレンオキシドの製造方法

発明者： 岩倉 具敦 ,  上野 隆史
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-240887
公開番号（公開出願番号）：特開2001-062307
出願日： 1999年08月27日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【課題】 従来の触媒に比較して高い選択率をもつエチレンオキシド製造用触媒を提供する。【解決手段】 多孔性担体に銀、アルカリ金属、レニウム並びに炭素、水素、酸素、硫黄、窒素、リン、珪素及びハロゲン元素から選ばれる少なくとも1種の元素からなる官能基を有する重合体とを含有する含浸液を含浸する、エチレンオキシド製造用触媒及び該触媒の存在下、エチレンを分子状酸素により気相接触酸化するエチレンオキシドの製造方法。

請求項（抜粋）：

多孔性担体に銀、アルカリ金属、レニウム並びに炭素、水素、酸素、硫黄、窒素、リン、珪素及びハロゲン元素から選ばれる少なくとも1種の元素からなる官能基を有する重合体とを含有する含浸液を含浸することを特徴とするエチレンを酸化してエチレンオキシドを製造するための触媒。

IPC (6件)：

B01J 31/06 ,  B01J 37/02 101 ,  C07D301/08 ,  C07D301/10 ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

B01J 31/06 Z ,  B01J 37/02 101 Z ,  C07D301/08 ,  C07D301/10 ,  C07D303/04 ,  C07B 61/00 300

Fターム (39件)：

4C048AA01 ,  4C048BB01 ,  4C048CC01 ,  4C048UU03 ,  4C048XX02 ,  4C048XX05 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BC01A ,  4G069BC04A ,  4G069BC06A ,  4G069BC06B ,  4G069BC32A ,  4G069BC32B ,  4G069BC64A ,  4G069BC64B ,  4G069BD02A ,  4G069BD05A ,  4G069BD06A ,  4G069BD07A ,  4G069BD08A ,  4G069BD11A ,  4G069BE40A ,  4G069CB08 ,  4G069DA05 ,  4G069EC02X ,  4G069EC22X ,  4G069FA03 ,  4G069FB16 ,  4G069FB17 ,  4G069FB18 ,  4G069FC08 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 酸化アルキレン触媒及び製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-523269   出願人：シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ