ヘテロアセン化合物及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-067755
公開番号（公開出願番号）：特開2006-248982
出願日： 2005年03月10日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：

【課題】有機溶媒への溶解度が従来のものに比べて高いヘテロアセン化合物を提供する。【解決手段】本発明の第1のヘテロアセン化合物は、式(1a)又は(1b)で表されるものである。下記式(1a)及び式(1b)において、Eは硫黄、セレン又はテルルであり、R1はトリアルキルシリル基、炭素数1〜18のアルキル基,炭素数1〜18のアルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基などから選ばれた一種であり、Ar1,Ar2及びAr3はそれぞれ独立してベンゼン、ナフタレン、アントラセン、チオフェン、セレノフェン、テルロフェン又は複数のチオフェンかセレノフェンかテルロフェンの縮環した含カルコゲン縮環体である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1a)又は(1b)で表されるヘテロアセン化合物。

IPC (2件)：

C07F 7/08 , C07D 495/22

FI (3件)：

C07F7/08 W , C07F7/08 R , C07D495/22

Fターム (18件)：

4C071AA01 , 4C071BB03 , 4C071CC25 , 4C071DD04 , 4C071EE13 , 4C071FF23 , 4C071HH30 , 4C071KK01 , 4C071LL05 , 4H049VN01 , 4H049VP02 , 4H049VQ62 , 4H049VR24 , 4H049VS61 , 4H049VS62 , 4H049VT04 , 4H049VU29 , 4H049VW02

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポリチオフェンラダー化合物とその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-069484 出願人：科学技術振興事業団

審査官引用 (1件)

縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシド及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-067756 出願人：国立大学法人名古屋大学

引用文献：

審査官引用 (2件)

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