特許
J-GLOBAL ID：200903073217500098
縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシド及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-067756
公開番号（公開出願番号）：特開2006-248983
出願日： 2005年03月10日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：
【課題】 高い電子受容能を持つと共に高平面性のπ共役骨格を持つ縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシドを提供する。【解決手段】 本発明の縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシドは、式(1a)又は(1b)で表される縮環ポリチオフェンに含まれる少なくとも1つの硫黄がジオキシドに酸化されているものである。ここで、式(1a)及び式(1b)において、Rは水素、トリアルキルシリル基、炭素数1〜18のアルキル基,炭素数1〜18のアルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基などから選ばれた1種であり、nは整数である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(1a)又は(1b)で表される縮環ポリチオフェンに含まれる少なくとも1つの硫黄がジオキシドに酸化されている、縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (13件)：
4C071AA01
, 4C071BB03
, 4C071CC25
, 4C071EE13
, 4C071FF23
, 4C071GG01
, 4C071HH08
, 4C071LL10
, 4J032BA04
, 4J032BB01
, 4J032BC03
, 4J032BD05
, 4J032CC01
