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J-GLOBAL ID：201002207630098234   整理番号：10A0754996

高い注目を集める設計容易性 今後は3次元集積化にも期待

著者 (1件)： 若林整 (ソニー)
資料名： Electronic Journal  (Electronic Journal)
号： 196  ページ： 60-61  発行年： 2010年07月15日 
JST資料番号： L5481A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 2010 Symposium on VLSI Technologyが,6月16日~18日に米ハワイ州Honoluluにて開催された。参加者数は約400名と減少したが,活発な議論が行なわれた。投稿論文数は215件,採択論文数は78件であった。今年も不揮発性メモリや極薄膜SOIを含む先端CMOSデバイスの発表が多く,さらに探索的デバイス,ばらつき・信頼性・モデリングが続いた。そして,設計容易性や異種材料統合技術の発表が多かった。今後は,設計容易性および3次元集積化技術の分野の発表の増加が期待される。

シソーラス用語： *超LSI ,  *国際会議 ,  不揮発性メモリ ,  超薄膜 ,  SOI構造 ,  CMOS構造 ,  回路設計 ,  漏れ電流 ,  NMOS構造 ,  雑音除去 ,  MOS構造
準シソーラス用語： シンポジウム ,  SOC

分類 (1件)： 集積回路一般  (NC03161C)

タイトルに関連する用語 (5件)： 注目 ,  設計 ,  容易性 ,  3次元集積化 ,  期待