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J-GLOBAL ID:201002217115086547   整理番号:10A1081559

シリコンフォトニクス

Silicon Photonics
著者 (9件):
資料名:
巻: 110  号: 193(PN2010 12-22)  ページ: 25-30  発行年: 2010年08月26日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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シリコンを光導波路のコアに,SiO2や空気をクラッドとして用いるシリコンフォトニクスは,高屈折率差により微小光回路を実現できるとともに,既存の成熟したシリコンCMOS技術を光デバイスに転用できるために高品質なデバイスを低コストに実現できる可能性を持つ。また,光電子集積デバイスも作製が可能であり,近年活発な研究開発が進められてきている。われわれも光通信用大規模マトリックススイッチや光インターコネクションを目指しシリコンフォトニクスの研究を進めている。特に,バックエンドプロセスとしての光回路及び,立体的な光配線作製を考えると,低温で多層集積可能なアモルファスシリコンを用いた技術の開発が重要である。(著者抄録)
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分類 (1件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 
引用文献 (10件):
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