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J-GLOBAL ID：201002268681478871   整理番号：10A0465197

SiO_xN_y膜に覆われたSiナノ粒子集合体における電子輸送特性

著者 (7件)： 小泉亮太 (甲南大 理工) ,  稲田貢 (関西大 システム理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 量子ナノテク研) ,  齊藤正 (関西大 システム理工) ,  杉村陽 (甲南大 理工) ,  杉村陽 (甲南大 量子ナノテク研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.18A-TM-17  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *ナノ結晶 ,  ナノ粒子 ,  *凝集体 ,  ケイ素化合物 ,  酸化物 ,  窒化物 ,  *絶縁膜 ,  薄膜成長 ,  ウエハ【IC】 ,  電流電圧特性 ,  パーコレーション ,  Coulombブロッケード ,  *SIS構造 ,  コアシェル構造 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： Si基板

分類 (2件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  ナノ粒子 ,  集合体 ,  電子 ,  輸送特性