特許
J-GLOBAL ID:201003041255970016

脱硫剤の処理方法および脱硫剤処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森下 賢樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-084362
公開番号(公開出願番号):特開2010-235733
出願日: 2009年03月31日
公開日(公表日): 2010年10月21日
要約:
【課題】脱硫剤を炭化水素の脱硫に好適な状態にする。【解決手段】脱硫剤の処理方法は、硫黄成分を含む炭化水素から水素を生成し、当該水素を用いて炭化水素を脱硫可能な脱硫剤の処理方法である。この脱硫剤の処理方法では、脱硫剤が炭化水素の脱硫に供される前に、100°C以上の温度に加熱した不活性ガスに脱硫剤を接触させることを含む。不活性ガスを加熱する温度は、例えば430°C以下の温度であり、不活性ガスとしては、窒素を用いることができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
硫黄成分を含む炭化水素から水素を生成し、当該水素を用いて炭化水素を脱硫可能な脱硫剤の処理方法であって、 前記脱硫剤が炭化水素の脱硫に供される前に、100°C以上の温度に加熱した不活性ガスに前記脱硫剤を接触させることを含むことを特徴とする脱硫剤の処理方法。
IPC (2件):
C10G 25/05 ,  C10G 29/04
FI (2件):
C10G25/05 ,  C10G29/04
Fターム (9件):
4H129AA02 ,  4H129CA06 ,  4H129DA07 ,  4H129KA18 ,  4H129KB03 ,  4H129KC04Y ,  4H129KD24X ,  4H129KD24Y ,  4H129NA03

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