特許
J-GLOBAL ID:201003070960620792
一酸化炭素濃度を低減するための触媒
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森田 順之
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2007074614
公開番号(公開出願番号):WO2008-075761
出願日: 2007年12月17日
公開日(公表日): 2008年06月26日
要約:
水素および一酸化炭素を含有する原料ガス中の一酸化炭素を選択酸化するに際し、生成ガス中の一酸化炭素濃度を5体積ppm以下にまで低減できる触媒として、無機酸化物からなる担体と該担体に担持されたルテニウムとを含有し、かつ径方向に沿った触媒断面における径方向のルテニウムの相対担持深度X(Ru)が下記式(1)で表される条件を満たす触媒が提供される。 X(Ru)≧15 (1)
請求項(抜粋):
水素および一酸化炭素を含有する原料ガスと酸素含有ガスを触媒の存在下に接触させて、原料ガス中の一酸化炭素を選択的に酸化して原料ガス中の一酸化炭素濃度を低減する方法において、該触媒が無機酸化物からなる担体と該担体に担持されたルテニウムとを含有し、かつ径方向に沿った触媒断面における径方向のルテニウムの相対担持深度X(Ru)が下記式(1)で表される条件を満たすことを特徴とする触媒。
X(Ru)≧15 (1)
(式中、ルテニウムの相対担持深度X(Ru)は、触媒粒子の半径に対するルテニウムの担持深度の比率(%)を表す。)
IPC (3件):
B01J 23/46
, B01J 23/50
, C01B 3/40
FI (3件):
B01J23/46 301M
, B01J23/50 M
, C01B3/40
Fターム (24件):
4G140EA01
, 4G140EA05
, 4G140EB36
, 4G169AA03
, 4G169BA01A
, 4G169BA01B
, 4G169BA02A
, 4G169BA04A
, 4G169BA05A
, 4G169BC32A
, 4G169BC32B
, 4G169BC33A
, 4G169BC70A
, 4G169BC70B
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169CC21
, 4G169DA05
, 4G169EA02Y
, 4G169EA04Y
, 4G169EC29
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