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J-GLOBAL ID：201102232046635076   整理番号：11A0795719

パルスレーザー堆積法を用いたSrLaVMoO₆薄膜の作製と評価

著者 (9件)： 大瀧未帆 (東大 理) ,  近松彰 (東大 理) ,  重松圭 (東大 理) ,  中尾祥一郎 (KAST) ,  廣瀬靖 (東大 理) ,  廣瀬靖 (KAST) ,  福村知昭 (東大 理) ,  長谷川哲也 (東大 理) ,  長谷川哲也 (KAST)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 58th  ページ： ROMBUNNO.25P-BZ-20  発行年： 2011年03月09日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *レーザ蒸着 ,  *酸化物 ,  モリブデン化合物 ,  バナジウム化合物 ,  ランタン化合物 ,  ストロンチウム化合物 ,  *薄膜 ,  *ペロブスカイト型結晶 ,  *エピタクシー ,  *電気抵抗率 ,  *磁化特性測定 ,  パルスレーザ蒸着 ,  ダブルペロブスカイト
準シソーラス用語： パルスレーザ堆積 ,  二重ペロブスカイト

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： パルスレーザー堆積法 ,  薄膜 ,  作製 ,  評価