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J-GLOBAL ID:201102271433371813   整理番号:11A1620692

硬X線光電子分光によりLi1-xCoO2電極に形成される界面膜の厚さ評価

Thickness estimation of interface films formed on Li1-x CoO2 electrodes by hard X-ray photoelectron spectroscopy
著者 (15件):
資料名:
巻: 196  号: 24  ページ: 10679-10685  発行年: 2011年12月15日 
JST資料番号: B0703B  ISSN: 0378-7753  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Li1-xCoO2電極に形成される固体電解質界面(SEI)膜を,硬X線光電子分光(HX-PES)により観察した。本稿は,理論計算とHX-PESを使用し,膜厚評価に対し特に焦点を当てた。計算の妥当性は,モデルSEI膜を用いて実験により証明した。LiCoO2複合材料電極上に形成される自然膜は,厚さ5nmのLiFであると評価された。60°Cでのこの電極の貯蔵は,炭酸塩化合物の形成により相当な膜成長(30-40nm)をもたらした。またLiCoO2電極の充電時のSEI膜変化についても試験した。膜中の主要成分は,充電中に厚さは減少するが,LiFまたはある種のホタル石であると推測された。またSEI形成メカニズムについても明らかにした。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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