特許

J-GLOBAL ID：201103030511606209

超親水性を有する意匠材による水膜形成方法

発明者： 下吹越 光秀 ,  磯 誠二 ,  渡部 俊也 ,  早川 信 ,  北村 厚 ,  千國 真
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
代理人 (1件)： 開口 宗昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-136994
公開番号（公開出願番号）：特開平9-075841
特許番号：特許第3704806号
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】光触媒性半導体材料を含む層で被覆した意匠材に、光励起による親水性を発現させて、均一な水膜を表面に形成することを特徴とする超親水性を有する意匠材による水膜形成方法。

IPC (3件)：

B05D 5/00 ,  B05D 7/24 ,  E04F 13/08

FI (3件)：

B05D 5/00 Z ,  B05D 7/24 302 Y ,  E04F 13/08 A