特許
J-GLOBAL ID:201103034849390762

高清浄性意匠部材及び意匠部材の清浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡部 温
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-174381
公開番号(公開出願番号):特開平9-078274
特許番号:特許第3882227号
出願日: 1996年06月14日
公開日(公表日): 1997年03月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 美的処理の施された基材と、この基材の表面に形成された光半導体を含む表面層と、を備え、 その表面が水との接触角10°未満の親水性を示し、 該表面層の厚さが0.2μm 未満であり、 前記表面層の屈折率が2以下であることを特徴とする高清浄性意匠部材。
IPC (2件):
C23C 30/00 ( 200 6.01) ,  C23G 5/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
C23C 30/00 ,  C23G 5/00
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭63-100042

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