特許
J-GLOBAL ID：201103046615609661
縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシド及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-067756
公開番号（公開出願番号）：特開2006-248983
特許番号：特許第4139903号
出願日： 2005年03月10日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記式で表される縮環ポリチオフェン-S,S-ジオキシド。
(上記式において、Rは水素、トリアルキルシリル基、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数1〜18のアルキル基であって全部又は一部の水素がフッ素に置換されたフルオロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アルケニル基、アルキニル基、アリル基、アミノ基、N-アルキルアミド基、アルカンカルボキサミド基、アゾ基、カルボキシル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、ボリル基、ホスフィノ基、シリルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、ハロゲン原子、アリール基、オリゴアリール基、1価の複素環基、または1価のオリゴ複素環基である)
IPC (2件)：
C07D 495/22 ( 200 6.01)
, C08G 61/12 ( 200 6.01)
