希ガス中レーザーアブレーション法によって作製されたシリコンナノ結晶の発光に与える熱処理の効果

文献

J-GLOBAL ID：201202102203395030 整理番号：12A1366067

出版者サイト複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=12A1366067&COPY=1") }}
このテーマを更に深掘りする（JDreamⅢへ） {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=12A1366067&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}

著者 (10件)： , , , , , , , , ,
資料名：
巻： 47th 号： 2 ページ： 916 発行年： 2000年03月28日
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

, , , ,

前のページに戻る