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J-GLOBAL ID：201202127869478420   整理番号：12A1355300

レーザーアブレーション法によるN₂ガス雰囲気中でのシリコン窒化膜の作製

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著者 (6件)： 河野公宗 (甲南大) ,  稲田貢 (甲南大 HRC) ,  梅津郁朗 (甲南大) ,  梅津郁朗 (甲南大 HRC) ,  杉村陽 (甲南大) ,  杉村陽 (甲南大 HRC)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 61st  号： 3  ページ： 977  発行年： 2000年09月03日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザーアブレーション法 ,  N2 ,  ガス雰囲気 ,  シリコン窒化膜 ,  作製