文献

J-GLOBAL ID：201202190927716810   整理番号：12A1356036

高周波スパッタリング法で作製したa-SiOx薄膜中のシリコンのナノ組織からの発光

著者 (7件)： 吉田謙一 (甲南大 理) ,  吉田謙一 (甲南大) ,  稲田貢 (甲南大) ,  梅津郁朗 (甲南大 理) ,  梅津郁朗 (甲南大) ,  杉村陽 (甲南大 理) ,  杉村陽 (甲南大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 61st  号： 3  ページ： 1225  発行年： 2000年09月03日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高周波スパッタリング ,  作製 ,  薄膜 ,  シリコン ,  ナノ組織