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文献
J-GLOBAL ID：201202204764888342
整理番号：12A1436406 パルスレーザーメルティングによるSiへのTiの過飽和ドープ II
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川邊大介
(甲南大 理工)
, 杉村陽
(甲南大 理工)
, 梅津郁朗
(甲南大 理工)
資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM) について
巻： 73rd ページ： ROMBUNNO.11A-B2-9 発行年： 2012年08月27日
JST資料番号： Y0055B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*パルスレーザ
, パルスレーザ について
溶融実験
, 溶融実験 について
ケイ素
, ケイ素 について
チタン
, チタン について
*過飽和
, 過飽和 について
*ドーピング
, ドーピング について
濃度
, 濃度 について
イットリウムアルミニウムガーネット
, イットリウムアルミニウムガーネット について
結晶化
, 結晶化 について
光吸収
光吸収 について
分類 (1件)：
分類
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レーザの応用
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
(BD04100V)
レーザの応用 について
タイトルに関連する用語 (4件)：
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです
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Si
, Si について
Ti
, Ti について
過飽和
, 過飽和 について
ドープ
ドープ について
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