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J-GLOBAL ID：201202243936206775   整理番号：12A0563279

架橋ポリシルセスキオキサンから得た高表面積階層多孔性炭素モノリスの細孔特性

Pore properties of hierarchically porous carbon monoliths with high surface area obtained from bridged polysilsesquioxanes

著者 (3件)： HASEGAWA George (Dep. of Chemistry, Graduate School of Sci., Kyoto Univ., Kitashirakawa, Sakyo-ku, Kyoto 606-8502, JPN) ,  KANAMORI Kazuyoshi (Dep. of Chemistry, Graduate School of Sci., Kyoto Univ., Kitashirakawa, Sakyo-ku, Kyoto 606-8502, JPN) ,  NAKANISHI Kazuki (Dep. of Chemistry, Graduate School of Sci., Kyoto Univ., Kitashirakawa, Sakyo-ku, Kyoto 606-8502, JPN)
資料名： Microporous and Mesoporous Materials  (Microporous and Mesoporous Materials)
巻： 155  ページ： 265-273  発行年： 2012年06月01日 
JST資料番号： E0642C  ISSN： 1387-1811  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アリーレン架橋ポリシルセスキオキサンから調製した炭素/シリカ複合体のナノ相抽出法で階層多孔性炭素モノリスを調製した。同複合体中に発達したナノ径のシリカ相が除去されてミクロ孔を増加させ,結果として炭素の熱的活性化と同じ効果になった。得られた炭素は均一に分布したミクロ孔を有していると期待された。ここに,著者らは窒素の吸着-脱離法と水銀ポロシメトリ法によって合成過程中の細孔特性の変化を報告した。特に,種々の温度における炭素/シリカ複合体中のシリカ相の成長をHorvath-Kawazoe法を用いたミクロ孔解析によって特性解析した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *多孔質体 ,  *炭素 ,  *階層構造 ,  ゾル-ゲル法 ,  *ポリシルセスキオキサン ,  架橋【高分子】 ,  ポリアリーレン ,  固液抽出 ,  炭化 ,  溶出 ,  形態 ,  表面積 ,  細孔径分布 ,  温度依存性 ,  *多孔性 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  複合体 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  ミクロ孔性 ,  *モノリス ,  細孔容積 ,  水銀ポロシメトリー ,  窒素吸着

分類 (2件)： 物理化学一般その他  (CB01030T) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 架橋 ,  ポリシルセスキオキサン ,  表面積 ,  階層 ,  多孔性炭素 ,  モノリス ,  細孔