有機薄膜の形成方法および形成装置、ならびに有機デバイスの製造方法

発明者： , , , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：藤島洋一郎 , 三反崎泰司 , 長谷部政男 , 田名網孝昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-186436
公開番号（公開出願番号）：特開2012-044111
出願日： 2010年08月23日
公開日（公表日）： 2012年03月01日
要約：

【課題】厚さおよび大きさを制御しながら単結晶の有機薄膜を迅速かつ容易に形成することが可能な有機薄膜の形成方法を提供する。【解決手段】温度制御可能な支持体1により支持された製膜用基体10の一面(幅広の溶液蓄積領域11およびそれに連結された幅狭の溶液絞込領域12)に有機溶液20を供給したのち、支持体1とは独立して温度制御可能な移動体4を有機溶液20に接触させながら支持体1の表面に沿って移動させる。支持体1の温度TSは、有機溶液20に関する溶解度曲線と過溶解度曲線との間に位置する温度に設定されると共に、移動体4の温度TMは、溶解度曲線よりも高温側に位置する温度に設定される。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

温度を制御可能である支持体により支持された製膜用基体の一面における溶液蓄積領域およびそれに連結された溶液絞込領域に、溶媒およびそれに溶解された有機材料を含む有機溶液を供給し、前記製膜用基体から離間されるように前記支持体に対向配置されると共に前記支持体とは独立して温度を制御可能である移動体を、前記有機溶液に接触させながら前記支持体の表面に沿って移動させるようにし、前記溶液絞込領域の幅を前記溶液蓄積領域の幅よりも狭くすると共に、前記溶液絞込領域を前記溶液蓄積領域よりも前記移動体の移動方向における後方に配置し、前記有機溶液に関する溶解度曲線(濃度対温度)と過溶解度曲線(濃度対温度)との間の温度となるように前記支持体の温度を設定すると共に、前記溶解度曲線よりも高温側の温度となるように前記移動体の温度を設定する、有機薄膜の形成方法。

IPC (7件)：

H01L 21/368 , H01L 21/336 , H01L 29/786 , H01L 51/50 , H05B 33/10 , H01L 51/05 , H01L 51/40

FI (7件)：

H01L21/368 L , H01L29/78 618A , H05B33/14 A , H05B33/10 , H01L29/78 618B , H01L29/28 100A , H01L29/28 310J

Fターム (52件)：

3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC45 , 3K107EE04 , 3K107GG06 , 3K107GG28 , 3K107GG35 , 5F053AA01 , 5F053AA50 , 5F053BB09 , 5F053BB42 , 5F053BB52 , 5F053DD19 , 5F053FF01 , 5F053GG01 , 5F053LL10 , 5F053RR01 , 5F053RR04 , 5F053RR05 , 5F053RR13 , 5F110AA16 , 5F110BB01 , 5F110CC01 , 5F110CC03 , 5F110CC05 , 5F110CC07 , 5F110DD01 , 5F110DD02 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE06 , 5F110EE43 , 5F110EE44 , 5F110EE45 , 5F110FF01 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF29 , 5F110GG05 , 5F110GG23 , 5F110GG42 , 5F110GG57 , 5F110HK01 , 5F110HK02 , 5F110HK03 , 5F110HK04 , 5F110HK06 , 5F110HK32 , 5F110HK33 , 5F110HK34 , 5F110QQ06

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