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J-GLOBAL ID：201302218745225241   整理番号：13A0903983

スパッタリング法によるNbO_x薄膜の作製と光学特性の評価

著者 (6件)： 森田稜也 (香川高専) ,  與田将士 (香川高専) ,  桟敷剛 (香川高専) ,  岡野寛 (香川高専) ,  紅野安彦 (岡山大) ,  難波徳郎 (岡山大)
資料名： 日本セラミックス協会年会講演予稿集(CD-ROM)
巻： 2013  ページ： ROMBUNNO.1P037  発行年： 2013年03月11日 
JST資料番号： X0505B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化ニオブ ,  酸化物 ,  *薄膜 ,  基板 ,  石英 ,  ターゲット ,  ニオブ ,  酸素 ,  *反応性スパッタリング ,  マグネトロンスパッタリング ,  RFスパッタリング ,  *光学的性質 ,  透過率 ,  反射率 ,  バンドギャップ ,  酸化物薄膜
準シソーラス用語： 光学的特性

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： スパッタリング法 ,  薄膜 ,  作製 ,  光学特性 ,  評価