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J-GLOBAL ID：201302239753346934   整理番号：13A1720905

パルスレーザーメルティングによるSi中でのMnの拡散と偏析

著者 (4件)： 小柴悠資 (甲南大 理工) ,  川邊大介 (甲南大 理工) ,  杉村陽 (甲南大 理工) ,  梅津郁朗 (甲南大 理工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 74th  ページ： ROMBUNNO.17P-A3-15  発行年： 2013年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *パルスレーザ照射 ,  *レーザ融解 ,  *ケイ素 ,  *マンガン ,  偏析 ,  *YAGレーザ ,  拡散係数 ,  過飽和 ,  *ドーピング ,  磁性半導体 ,  *不純物拡散 ,  希薄磁性半導体
準シソーラス用語： 偏析係数

分類 (3件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L) ,  半導体の格子欠陥  (BK12040Q)

タイトルに関連する用語 (4件)： Si ,  Mn ,  拡散 ,  偏析