特許
J-GLOBAL ID:201303009671139343

4,5-ジメチル-[1,3]ジセレノール-2-セロンの新規製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 平木 祐輔 ,  石井 貞次 ,  藤田 節
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-045809
公開番号(公開出願番号):特開2008-208063
特許番号:特許第5083753号
出願日: 2007年02月26日
公開日(公表日): 2008年09月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下記の式(4): で表される4,5-ジメチル-[1,3]ジセレノール-2-チオンの製造方法であって、該方法が、 (a)式(1): (式中、R1およびR2は独立に、同じまたは異なるアルキル基を表わす)で表される2-チオキソ-[1,3]ジセレノール-4,5-ジカルボン酸ジアルキルエステルを、アルカリハライドの存在下、ホウ水素化還元剤と反応させて、式(2): で表される4,5-ビス-ヒドロキシメチル-[1,3]ジセレノール-2-チオンを合成する工程、 (b)式(2)の化合物をPBr3、PCl3、PCl5、HCl又はHBrと反応させて、式(3): (式中、Xはハロゲン原子を表わす)で表される4,5-ビス-ハロメチル-[1,3]ジセレノール-2-チオンを合成する工程、および、 (c)式(3)の化合物を、ホウ水素化還元剤と反応させて、式(4)の化合物を合成する工程 を含むことを特徴とする、上記方法。
IPC (1件):
C07D 345/00 ( 200 6.01)
FI (1件):
C07D 345/00 CSP
引用特許:
審査官引用 (2件)
引用文献:
審査官引用 (7件)
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