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J-GLOBAL ID：201402205572494864   整理番号：14A1480721

バイポーラPBII法によるマイクロトレンチへのDLCコーティングおよびプラズマ挙動解析

著者 (3件)： 平田祐樹 (東大 大学院工学系研究科) ,  下園隼人 (東大 大学院工学系研究科) ,  崔しゅん豪 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： 真空に関する連合講演会講演予稿集
巻： 55th  ページ： 3  発行年： 2014年11月18日 
JST資料番号： L1308A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： DLC膜 ,  *被覆層 ,  イオン注入 ,  解析 ,  *トレンチカット【加工】 ,  プラズマ生成 ,  構成 ,  シミュレータプログラム ,  パターン形成 ,  *微細加工 ,  *DLC被覆 ,  PIC法 ,  挙動解析 ,  薄膜形成
準シソーラス用語： PBII法【プラズマ】 ,  プラズマ浸漬イオン注入 ,  成膜

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： バイポーラ ,  PBII法 ,  マイクロ ,  トレンチ ,  DLCコーティング ,  プラズマ ,  挙動解析