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J-GLOBAL ID：201402225475810515   整理番号：14A0584322

Al₂O₃/β-Ga₂O₃ヘテロ接合のバンドアラインメントと電気的性質

Band alignment and electrical properties of Al₂O₃/β-Ga₂O₃ heterojunctions

著者 (8件)： KAMIMURA Takafumi (National Inst. of Information and Communications Technol., 4-2-1 Nukui-Kitamachi, Koganei, Tokyo 184-8795, JPN) ,  SASAKI Kohei (Tamura Corp., 2-3-1 Hirosedai, Sayama, Saitama 350-1328, JPN) ,  HOI WONG Man (National Inst. of Information and Communications Technol., 4-2-1 Nukui-Kitamachi, Koganei, Tokyo 184-8795, JPN) ,  KRISHNAMURTHY Daivasigamani (National Inst. of Information and Communications Technol., 4-2-1 Nukui-Kitamachi, Koganei, Tokyo 184-8795, JPN) ,  KURAMATA Akito (Tamura Corp., 2-3-1 Hirosedai, Sayama, Saitama 350-1328, JPN) ,  MASUI Takekazu (Koha Co., Ltd., 2-6-8 Kouyama, Nerima, Tokyo 176-0022, JPN) ,  YAMAKOSHI Shigenobu (Tamura Corp., 2-3-1 Hirosedai, Sayama, Saitama 350-1328, JPN) ,  HIGASHIWAKI Masataka (National Inst. of Information and Communications Technol., 4-2-1 Nukui-Kitamachi, Koganei, Tokyo 184-8795, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 104  号： 19  ページ： 192104-192104-5  発行年： 2014年05月12日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： 酸化アルミニウム ,  *酸化ガリウム ,  ヘテロ接合 ,  アラインメント ,  バンド構造 ,  X線光電子分光法 ,  バンドオフセット ,  伝導バンド ,  価電子バンド ,  電流 ,  Fowler-Nordheimトンネリング ,  *MOS構造 ,  容量電圧特性 ,  ヒステリシス ,  ドーピング ,  ケイ素 ,  N型半導体 ,  化合物半導体 ,  バンドアライメント
準シソーラス用語： *MOSダイオード ,  トンネル電流

分類 (2件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X) ,  ダイオード  (NC03050R)

タイトルに関連する用語 (5件)： Al2O3 ,  β-Ga2O3 ,  ヘテロ接合 ,  バンドアラインメント ,  電気的性質