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J-GLOBAL ID：201402284476930642   整理番号：14A1021625

枚葉式半導体洗浄機モデル内渦構造のPIV計測

PIV measurement of vortical structures in a model of semiconductor single wafer cleaner

著者 (5件)： 清水義也 (岡山大 大学院) ,  柳瀬眞一郎 (岡山大 大学院) ,  河内俊憲 (岡山大 大学院) ,  森洋平 (岡山大 大学院) ,  福田修也 (岡山大 大学院)
資料名： 日本機械学会論文集(Web)  (Bulletin of the JSME (Web))
巻： 80  号： 815  ページ： FE0197 (WEB ONLY)  発行年： 2014年 
JST資料番号： U0182B  ISSN： 2187-9761  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体製造における枚葉式洗浄装置内に発生する渦は,ウェハ表面にパーティクルを再付着させる恐れがある。本研究ではPIV計測を用いて,モデル化された洗浄装置内の渦構造,およびそれらの形成条件を検討した。実験装置は円筒状の外筒内に回転円盤を設置した構造で,空気のダウンフローは円盤上部の外筒入り口から流入させた。PIVの結果より,円盤上下面の外周で渦が生成されることを明らかにし,それらの渦がお互いに衝突し大きな渦を形成することが分かった。さらには速い回転速度では外筒壁においても大きな渦が観察された。本研究ではこの渦の発生を防ぐために,回転円盤の回転速度に対して最適なダウンフロー流量を明らかにした。(著者抄録)

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  *洗浄装置 ,  *渦 ,  流れ構造 ,  粒子画像流速測定 ,  粒子 ,  付着 ,  実験装置 ,  回転円板 ,  気流 ,  乾燥 ,  回転数

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (8件)：

• Flow Visualization Society of Japan ed., Handbook of flow visualization (1986), pp.57-59 (in Japanese).
• Fukuda, N., Shimizu, Y., Kumeda, T., Mori, Y., Kouchi, T. and Yanase, S., Visualization of the flow around a rotating disk in a cylindrical container, Proceedings of the 43th JSME Chugoku-Shikoku Conference for students (2013), Paper No.1020 (in Japanese).
• Kimura, S., Munekata, M., Tanaka, Z., Kurishima, H., Yoshikawa, H. and Ohba, H., A study on boundary layer flow over a wafer surface in spin coating system, Proceedings of the JSME annual meeting No.2 (2006), pp.413-414 (in Japanese).
• Mori, Y., Shimizu, Y., Goto, S. and Yanase, S., Experiments of flow in the single silicon wafer cleaning chamber, Proceedings of the 9th JSFM Chushikoku-Kyushu Conference (2012), (in Japanese).
• Ogino, F., Saito, Y. and Matsumoto, H., Flow near a rotating disc with stagnation flow, Kagaku kogaku ronbunshu Vol.23, No.5 (1997), pp.713-719 (in Japanese).

タイトルに関連する用語 (6件)： 枚葉式 ,  洗浄 ,  モデル ,  渦構造 ,  PIV ,  計測