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J-GLOBAL ID：201402289259816566   整理番号：14A0223726

バイポーラPBII法によるマイクロ・ナノスケールトレンチパターンへの三次元DLCコーティング

著者 (5件)： CHOI Junho (東大 工) ,  時岡秀行 (東大 大学院) ,  PARK Wonsoon (東大 大学院) ,  平田祐樹 (東大 大学院) ,  加藤孝久 (東大 工)
資料名： 日本トライボロジー学会トライボロジー会議予稿集(CD-ROM)
巻： 2013  号： 春  ページ： ROMBUNNO.E17  発行年： 2013年05月10日 
JST資料番号： Y0047C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ダイヤモンド状炭素 ,  *DLC膜 ,  *被覆層 ,  *溝 ,  長さ ,  *パターン形成 ,  イオン注入 ,  プラズマ曝露 ,  Raman分光分析 ,  膜厚 ,  ウエハ【IC】 ,  DLC被覆 ,  マイクロスケール ,  ナノスケール ,  薄膜形成 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： 三次元構造 ,  成膜 ,  バイポーラPBII ,  シリコン基板

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： バイポーラ ,  PBII法 ,  DLCコーティング