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J-GLOBAL ID：201402297703511176   整理番号：14A1116601

トポケミカル酸化反応による新規ペロブスカイト薄膜の合成

著者 (7件)： 吉宗航 (京大) ,  TASSEL Cedric (京大) ,  BOUILLY Guillaume (京大) ,  寺嶋孝仁 (京大) ,  山本隆文 (京大) ,  小林洋冶 (京大) ,  陰山洋 (京大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 27th  ページ： ROMBUNNO.1C26  発行年： 2014年08月25日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  ペロブスカイト型結晶 ,  カルシウム化合物 ,  *コバルト酸塩 ,  *トポ化学反応 ,  酸化 ,  *レーザ蒸着 ,  エピタクシー ,  ストロンチウム化合物 ,  固溶体 ,  *結晶構造 ,  磁化率 ,  電気抵抗 ,  パルスレーザ蒸着 ,  サイト占有 ,  酸化カルシウムコバルト
準シソーラス用語： コバルト酸カルシウム ,  酸化反応 ,  PLD【蒸着】 ,  エピタキシャル成長

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： 酸化反応 ,  ペロブスカイト ,  薄膜