特許

J-GLOBAL ID：201403097552723294

有機薄膜の形成方法および有機デバイスの製造方法

発明者： 後藤 修 ,  保原 大介 ,  野元 章裕 ,  村上 洋介 ,  冨谷 茂隆
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (4件)： 藤島 洋一郎 ,  三反崎 泰司 ,  長谷部 政男 ,  田名網 孝昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-186435
公開番号（公開出願番号）：特開2012-044110
特許番号：特許第5640553号
出願日： 2010年08月23日
公開日（公表日）： 2012年03月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (1)溶媒およびそれに溶解された有機材料を含む有機溶液と、前記有機溶液に関する溶解度曲線(濃度対温度)および過溶解度曲線(濃度対温度)と、互いに連結された溶液蓄積領域およびそれよりも幅が狭い溶液絞込領域を一面に有する製膜用基体とを準備し、 (2)前記有機溶液の温度TSが前記溶解度曲線よりも高温側に位置する温度T1になると共に、前記有機溶液の周辺環境の蒸気圧Pが前記温度T1における飽和蒸気圧になるようにして、前記溶液蓄積領域および前記溶液絞込領域に前記有機溶液を供給し、 (3)前記温度TSを前記温度T1から前記溶解度曲線と前記過溶解度曲線との間に位置する温度T2まで低下させる、 有機薄膜の形成方法。

IPC (5件)：

H01L 21/368 ( 200 6.01) ,  H01L 21/336 ( 200 6.01) ,  H01L 29/786 ( 200 6.01) ,  H01L 51/05 ( 200 6.01) ,  H01L 51/40 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H01L 21/368 L ,  H01L 29/78 618 A ,  H01L 29/78 618 B ,  H01L 29/28 100 A ,  H01L 29/28 310 J