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J-GLOBAL ID：201502207353879352   整理番号：15A1167417

枚葉式半導体洗浄装置内に形成される渦の周期構造

Periodical structure of vortices in a semiconductor single wafer spin cleaner

著者 (6件)： 河内俊憲 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  福田修也 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  中野裕介 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  清水義也 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  永田靖典 (岡山大 大学院自然科学研究科) ,  柳瀬眞一郎 (岡山大 大学院自然科学研究科)
資料名： 日本機械学会論文集(Web)  (Bulletin of the JSME (Web))
巻： 81  号： 829  ページ： 15-00273(J-STAGE)  発行年： 2015年 
JST資料番号： U0182B  ISSN： 2187-9761  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では枚葉式シリコンウェーハ洗浄装置内の2次元非定常PIV計測と3次元LESを行い,洗浄機内に形成される3次元渦構造の推定を行った。PIV計測,LESとも渦構造の同定には速度勾配テンソルの第2不変量であるQ値を用いた。PIV計測の結果より,円板の回転によりその端面から多数の渦が形成され,円板端から排気カバーへ向かう帯状の渦領域が存在することが分かった。この渦領域は,装置上方からの下降流が優勢で円板と排気カバーの間に押し込まれている場合と,円板と排気カバーの間の流れの放射流が優勢になり外筒壁へ向かって放出さる場合に分けられ,これらが周期的に繰り返されていた。そしてLESの結果により,この周期性は洗浄機内に安定に生じる大規模な縦渦構造がゆっくりと回転することに起因していることを明らかにした。(著者抄録)

シソーラス用語： *半導体 ,  *洗浄装置 ,  渦 ,  *周期構造 ,  二次元 ,  *粒子画像流速測定 ,  *三次元 ,  *ラージエディシミュレーション ,  ヘリックス構造 ,  *剪断速度 ,  テンソル ,  不変量 ,  円板 ,  *縦渦 ,  Reynolds数 ,  *変動
準シソーラス用語： *シリコンウエハ ,  移流速度 ,  下降流 ,  *速度変動 ,  非定常 ,  *枚葉式

分類 (2件)： 不均質流  (BC02060J) ,  その他の表面処理  (WC08070F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 枚葉式 ,  洗浄装置 ,  渦 ,  周期構造