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J-GLOBAL ID:201502210104781190   整理番号:15A1033148

ガス中パルスレーザアブレーションで作製されたTiO2ナノ粒子凝集体の階層構造

Hierarchical Structure of TiO2 Nano-aggregates Prepared by Pulsed Laser Ablation in Background Gas
著者 (2件):
資料名:
巻: 135  号:ページ: 1055-1059 (J-STAGE)  発行年: 2015年 
JST資料番号: S0810A  ISSN: 0385-4221  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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雰囲気ガスとして酸素を使用したガス中パルスレーザアブレーションによって作製されたTiO2ナノ粒子凝集体の階層構造を調査した。TiO2は光触媒材料の代表格であるが,可視光における光吸収が低いため,光触媒性能を向上させる方法としてナノ粒子化して比表面積を上げることが考えられる。PLA法は,ナノ粒子作製法の1つであるが,PLA法で作製されたTiO2のメカニズムは定式化されておらず,制御構造という観点からは十分な議論はされていない。本論文では,雰囲気ガスの圧力や基板・ターゲット間距離がPLA法で堆積された薄膜に与える影響を調査した。また,SEM画像の解析により,ナノ構造を一次構造として,サブミクロンオーダーの特性長を持つ二次構造,ミクロンオーダーの特性長を持つ三次構造が形成されたことを明らかにした。一連の検討から得られた様々な知見を提示した。
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分類 (1件):
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光化学一般 
引用文献 (12件):
  • (1) A. Fujishima and K. Honda : “Electrochemical Photolysis of Water at a Semiconductor Electrode”, Nature, Vol. 238, No. 5358, pp. 37-38 (1972)
  • (2) T. Yoshida, S. Takeyama, Y. Yamada, and K. Mutoh : “Nanometer-sized silicon crystallites prepared by excimer laser ablation in constant pressure inert gas”, Appl. Phys. Lett., Vol. 68, No. 13, pp. 1772-1774 (1996)
  • (3) I. Umezu, A. Sugimura, M. Inada, T. Makino, K. Matsumoto, and M. Takata : “Formation of nanoscale fine-structured silicon by pulsed laser ablation in hydrogen background gas”, Phys. Rev. B, Vol. 76, No. 4, pp. 045328 1-10 (2007)
  • (4) E. György, A. P. Del Pino, G. Sauthier, A. Figueras, F. Alsina, and J. Pascual : “Structural, morphological and local electric properties of TiO2 thin films grown by pulsed laser deposition”, J. Phys. D, Vol. 40, No. 17, pp. 5246-5251 (2007)
  • (5) D. Luca, D. Macovei, and C. M. Teodorescu : “Characterization of titania thin films prepared by reactive pulsed-laser ablation”, Surf. Sci., Vol. 600, No. 18, pp. 4342-4346 (2006)
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