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J-GLOBAL ID：201502213111772685   整理番号：15A1096333

マイクロマシニングによるマルチ集束イオンビームデバイス作製法の研究

著者 (5件)： 吉田凌 (東北大) ,  清水康司 (東北大) ,  原基揚 (東北大) ,  大口裕之 (東北大) ,  桑野博喜 (東北大)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2015  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.I70  発行年： 2015年08月20日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 近年,開発された液体Ga金属イオン源は,マスク補修,断面観察などに非常に有用である。しかし,大量生産用のプロセス装置としてはコストが高く使われることは少ない。そこで本研究では集束イオンビームを用いた微細加工の生産効率を上げる目的で,Si基板上にマイクロマシニングにより多数の集束イオンビームデバイスを形成した。イオン源エミッタ,マイクロレンズを25個集積化したマルチ集束イオンビームデバイスを作製した結果について報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： イオンビーム加工 ,  *集束イオンビーム ,  *イオン源 ,  マイクロマシニング ,  *特殊加工機 ,  ケイ素 ,  *ウエハ【IC】 ,  *MEMS ,  イオン液体 ,  マイクロレンズ ,  電極 ,  電界放出 ,  液体金属イオン源 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： MEMSデバイス ,  シリコン基板 ,  電界エミッタ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子源,イオン源  (BD02020U)

タイトルに関連する用語 (6件)： マイクロマシニング ,  マルチ ,  集束イオンビーム ,  デバイス ,  作製法 ,  研究