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J-GLOBAL ID：201502215190786494   整理番号：15A1044412

パワーデバイス向け貼り合せSOIウェーハ-BOX堆積と常温貼り合せの検討-

著者 (2件)： 古賀祥泰 (SUMCO) ,  栗田一成 (SUMCO)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.13P-1E-13  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  酸化膜 ,  漏れ電流 ,  透過型電子顕微鏡 ,  二次イオン質量分析 ,  半導体プロセス ,  *半導体 ,  *SOIウェハ ,  *埋込み酸化膜 ,  化成皮膜
準シソーラス用語： SOI ,  *パワーデバイス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： パワーデバイス ,  貼り合せ ,  SOIウェーハ ,  BOX ,  堆積 ,  常温