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J-GLOBAL ID：201502233962626010   整理番号：15A0545294

ケイ素置換チオケトンの新規合成法の開発

著者 (3件)： 菅又功 (東洋大 理工) ,  田中佑佳 (東洋大 理工) ,  石井茂 (東洋大 理工)
資料名： 有機典型元素化学討論会講演要旨集  (有機典型元素化学討論会要旨集)
巻： 41st  ページ： 168  発行年： 2014年11月27日 
JST資料番号： L1354A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 化学合成 ,  *チオケトン ,  *有機ケイ素化合物 ,  脱離反応 ,  リチオ化 ,  硫化 ,  基 ,  立体保護基
準シソーラス用語： フェニルジメチルシリル基 ,  脱シリルハライド

分類 (1件)： 有機けい素化合物  (CF08030C)

物質索引 (4件)： トリス(フェニルジメチルシリル)メタン ,  トリス(フェニルジメチルシリル)メタンチオール ,  トリス(フェニルジメチルシリル)メタンスルフェン酸クロリド ,  ビス(フェニルジメチルシリル)チオケトン

タイトルに関連する用語 (4件)： ケイ素 ,  置換 ,  チオケトン ,  開発