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J-GLOBAL ID：201502264180631239   整理番号：15A0168524

半導体洗浄機モデル内流れのPIV計測

著者 (5件)： 清水義也 (岡山大) ,  柳瀬眞一郎 (岡山大) ,  河内俊憲 (岡山大) ,  森洋平 (岡山大 工) ,  福田修也 (岡山大 工)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2013  ページ： ROMBUNNO.S055015  発行年： 2013年09月07日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体の洗浄方法の1つである枚葉式洗浄方法は振り切り乾燥時に超純水のミストやパーティクルの再付着を防ぐためにダウンフローを有する処理環境内の気流とウェハの回転やチャンバの形状による気流の乱れを最適化する必要があると考えられる。本研究では,実際に半導体の製造に使用されている洗浄装置を例に取り,ダウンフローとウェハの回転数との関係,並びにウェハ乾燥にもたらす影響をPIV計測により確認し,より乾燥時に洗浄性能を落とさない方法を見出すことができた。(著者抄録)

シソーラス用語： *洗浄装置 ,  半導体プロセス ,  方式 ,  *ウエハ【IC】 ,  洗浄 ,  付着 ,  乾燥 ,  *粒子画像流速測定 ,  再付着
準シソーラス用語： PIV【流速測定】 ,  洗浄機器 ,  枚葉式

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 洗浄 ,  モデル ,  流れ ,  PIV ,  計測