特許

J-GLOBAL ID：201503057605266945

エポキシ化合物の製造方法

発明者： 岡崎 素也 ,  松本 隆也
出願人/特許権者： JX日鉱日石エネルギー株式会社
代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-182042
公開番号（公開出願番号）：特開2015-048337
出願日： 2013年09月03日
公開日（公表日）： 2015年03月16日
要約：

【課題】タングステンペルオキシド化合物を触媒に用いながら、工業的な製造プロセスに好適に適用可能な、エポキシ化合物の製造方法を提供すること。【解決手段】タングステンペルオキシド化合物を触媒とし、過酸化水素を酸化剤とするオレフィン化合物のエポキシ化反応により、エポキシ化合物を含有する反応混合物を得るエポキシ化工程と、 常圧蒸留又は減圧蒸留によって前記反応混合物から溶媒を除去する溶媒除去工程と、 前記溶媒除去工程を経た前記反応混合物から、薄膜蒸留によって、未反応の前記オレフィン化合物を分離する、第一の薄膜蒸留工程と、 前記第一の薄膜蒸留工程を経た前記反応混合物から、薄膜蒸留によって、前記エポキシ化合物を分離する、第二の薄膜蒸留工程と、を有する、エポキシ化合物の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

タングステンペルオキシド化合物を触媒とし、過酸化水素を酸化剤とするオレフィン化合物のエポキシ化反応により、エポキシ化合物を含有する反応混合物を得るエポキシ化工程と、 常圧蒸留又は減圧蒸留によって前記反応混合物から溶媒を除去する溶媒除去工程と、 前記溶媒除去工程を経た前記反応混合物から、薄膜蒸留によって、未反応の前記オレフィン化合物を分離する、第一の薄膜蒸留工程と、 前記第一の薄膜蒸留工程を経た前記反応混合物から、薄膜蒸留によって、前記エポキシ化合物を分離する、第二の薄膜蒸留工程と、 を有する、エポキシ化合物の製造方法。

IPC (3件)：

C07D 301/12 ,  C07D 303/04 ,  B01J 31/02

FI (3件)：

C07D301/12 ,  C07D303/04 ,  B01J31/02 102Z

Fターム (23件)：

4C048AA05 ,  4C048BB01 ,  4C048BC01 ,  4C048CC01 ,  4C048XX02 ,  4C048XX03 ,  4G169AA02 ,  4G169BA21B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC60A ,  4G169BC60B ,  4G169BD02A ,  4G169BD02B ,  4G169BE01B ,  4G169BE17B ,  4G169CB07 ,  4G169CB08 ,  4G169CB09 ,  4G169CB73 ,  4G169EC27 ,  4H039CA63 ,  4H039CC40