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J-GLOBAL ID：201602200021286253   整理番号：16A0281747

炭素クラスターイオン注入Siエピウェーハの特徴(5)-マイクロ波加熱処理がクラスター注入レンジに与える効果-

著者 (7件)： 門野武 (SUMCO) ,  奥山亮輔 (SUMCO) ,  柾田亜由美 (SUMCO) ,  廣瀬諒 (SUMCO) ,  古賀祥泰 (SUMCO) ,  奥田秀彦 (SUMCO) ,  栗田一成 (SUMCO)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 63rd  ページ： ROMBUNNO.20P-H113-5  発行年： 2016年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *クラスタ分子 ,  *炭素 ,  *イオン注入 ,  *ウエハ【IC】 ,  半導体 ,  層 ,  マイクロ波加熱 ,  熱処理 ,  イメージセンサ ,  ゲッタリング ,  拡散 ,  二次イオン質量分析 ,  *炭素クラスタ ,  CMOSイメージセンサ ,  原子拡散 ,  *シリコンウエハ ,  エピタキシャル層
準シソーラス用語： *Siウエハ ,  エピ層

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 炭素クラスター ,  イオン注入 ,  Si ,  マイクロ波加熱 ,  クラスター ,  注入 ,  レンジ