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J-GLOBAL ID：201602258596618488   整理番号：16A0929305

ルチル型ReO₂エピタキシャル薄膜の合成及び特性評価

著者 (9件)： 柴田峻佑 (東大 大学院) ,  廣瀬靖 (東大 大学院) ,  廣瀬靖 (KAST) ,  重松圭 (KAST) ,  中尾祥一郎 (KAST) ,  近松彰 (東大 大学院) ,  池永英司 (SPring-8) ,  長谷川哲也 (東大 大学院) ,  長谷川哲也 (KAST)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 77th  ページ： ROMBUNNO.13a-D62-11  発行年： 2016年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *酸化レニウム ,  *ルチル型結晶 ,  *薄膜 ,  *エピタクシー ,  パルスレーザ蒸着 ,  X線回折 ,  エレクトロトランスポート ,  *酸化物薄膜

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (4件)： ルチル ,  エピタキシャル ,  薄膜 ,  特性評価