特許

J-GLOBAL ID：201603018199997952

放射性同位元素製造装置

発明者： 竹中 文章 ,  佐々木 崇了 ,  松浦 栄次 ,  公文 裕巳 ,  渡辺 恭良 ,  金山 洋介 ,  谷口 愛実 ,  小田 敬 ,  菅 亨
出願人/特許権者： 国立大学法人 岡山大学 ,  住友重機械工業株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柳 康樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-181813
公開番号（公開出願番号）：特開2016-065867
出願日： 2015年09月15日
公開日（公表日）： 2016年04月28日
要約：

【課題】ターゲットの着脱の手間を低減小さくする放射性同位元素製造装置を提供する。【解決手段】 放射性同位元素製造装置1は、荷電粒子線Bを通過させる照射装置本体部5と、照射装置本体部5に対して近接及び離間する移動が可能であり照射装置本体部5からの荷電粒子線Bが照射される位置でターゲット20を固定するターゲット固定部9と、を備え、ターゲット固定部9のターゲット基板10は、荷電粒子線Bの照射方向に交差する底面12aを有しターゲット20を底面12aに沿わせて収納する窪み部12と、ターゲット20の下辺縁部20dに当接してターゲット20を支持する下側面14dと、窪み部12の縁部である下側面14dから底面12aに平行な面内で内側に張り出し、底面12aから離れる方向へのターゲットの移動を規制する爪部13a,13b,13cと、を有する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

金属板であるターゲットに荷電粒子線を照射して放射性同位元素を得る放射性同位元素製造装置であって、 前記荷電粒子線を通過させる照射装置本体部と、 前記照射装置本体部に対して近接及び離間する移動が可能であり前記照射装置本体部からの荷電粒子線が照射される位置で前記ターゲットを固定するターゲット固定部と、を備え、 前記ターゲット固定部は、 前記荷電粒子線の照射方向に交差する底面を有し前記ターゲットを前記底面に沿わせて収納する窪み部と、 前記ターゲットの下縁部に当接して前記ターゲットを支持する支持部と、 前記窪み部の縁部から前記底面に平行な面内で内側に張り出し、前記底面から離れる方向への前記ターゲットの移動を規制する爪部と、を有する放射性同位元素製造装置。

IPC (3件)：

G21K 5/08 ,  H05H 6/00 ,  G21G 1/10

FI (3件)：

G21K5/08 R ,  H05H6/00 ,  G21G1/10

Fターム (4件)：

2G085BA17 ,  2G085BE03 ,  2G085BE06 ,  2G085EA07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 固体ターゲット回収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-114598   出願人：住友重機械工業株式会社
• ネイルアート装飾具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-113162   出願人：向井誠治
• 基板用カセット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-277927   出願人：凸版印刷株式会社