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J-GLOBAL ID：201702219079570011   整理番号：17A0548226

Q値100万を超えるシリコンナノ共振器への液相ポストプロセス付加

著者 (8件)： 伊藤隆浩 (大阪府大 大学院) ,  芦田紘平 (大阪府大 大学院) ,  植田眞由 (大阪府大 大学院) ,  床波志保 (大阪府大 大学院) ,  飯田琢也 (大阪府大 大学院) ,  岡野誠 (産業技術総合研) ,  山田浩治 (産業技術総合研) ,  高橋和 (大阪府大 大学院)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.14p-P7-7  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *微小共振器 ,  *ケイ素 ,  Q値 ,  液相 ,  後処理 ,  半導体プロセス ,  CMOS ,  水溶液 ,  *ナノ構造 ,  ナノ材料 ,  パターン形成 ,  相
準シソーラス用語： CMOSプロセス

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (5件)： Q値 ,  シリコン ,  ナノ共振器 ,  液相 ,  プロセス