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J-GLOBAL ID：201702268423904562   整理番号：17A0814233

マイクロフォンを用いた半導体洗浄装置モデル内に形成される大規模渦構造の検出

著者 (5件)： 三好勇輝 (岡大 院) ,  中野裕介 (岡大 院) ,  河内俊憲 (岡大 院) ,  永田靖典 (岡大 院) ,  柳瀬眞一郎 (岡大 院)
資料名： 日本機械学会流体工学部門講演会講演論文集(CD-ROM)
巻： 94th  ページ： ROMBUNNO.0107  発行年： 2016年 
JST資料番号： L0394B  ISSN： 1348-2882  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体の洗浄装置モデル内に形成される大規模渦構造を圧力計測により実験的に検出することを試みた。渦構造による圧力変動が微弱なため,計測にはマイクロフォンを使用した。機械振動による周波数と渦構造の周波数を区別するため加速度計を設置した。周波数解析では,円盤の回転数が増加するにつれて,渦構造の周波数は線形的に増加していた。PIVで得られたデータと比較すると同じ傾向が見られた。機械振動を除去すると周波数ピークが3個あり,渦構造が時間的に変化していることが分かった。(著者抄録)

シソーラス用語： *半導体 ,  *洗浄装置 ,  *渦流 ,  *流れ構造 ,  *圧力測定 ,  *マイクロホン ,  利用
準シソーラス用語： 音響応用

分類 (6件)： 層流,乱流,境界層  (BC02030C) ,  集塵  (XD02100D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  流体の実験・試験・測定方法及び装置  (BC01020K) ,  その他の音響応用  (BB03100I) ,  力,仕事量,圧力,摩擦の計測法・機器  (AD05050V)

タイトルに関連する用語 (4件)： マイクロフォン ,  洗浄装置 ,  モデル ,  大規模渦