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J-GLOBAL ID：201702275316316384   整理番号：17A0126783

半導体洗浄機モデル内の渦構造の時間変化

著者 (6件)： 清水義也 (岡山大 大学院) ,  柳瀬眞一郎 (岡山大 大学院) ,  河内俊憲 (岡山大 大学院) ,  森洋平 (岡山大 大学院) ,  福田修也 (岡山大 大学院) ,  中野裕介 (岡山大 工)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2014  ページ： ROMBUNNO.S0530102  発行年： 2014年09月06日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では半導体の枚葉式洗浄装置をモデル化した実験装置内の流れを2次元PIVで計測し,内部の渦の構造や挙動について調べた。実験装置は円形外筒内に回転円盤を設置し,ダウンフローを円盤上部から流入させた。結果より,外筒壁面近傍に発生する反時計回転渦による乱流エネルギーは回転円盤付近に匹敵し,パーティクルの再付着を引き起こしうる。また,回転円盤付近で発生し外筒へ達する渦や瞬間的に観測される渦も多く存在する。このことから渦は管状で回転円盤による流れに流され観測領域を横切ったものと考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： 半導体 ,  *洗浄装置 ,  *流れ構造 ,  *経時変化 ,  ウエハ【IC】 ,  循環流 ,  回転数 ,  乾燥 ,  回転円板 ,  粒子画像流速測定
準シソーラス用語： *洗浄機 ,  *渦構造 ,  *時間変化 ,  *枚葉式洗浄装置 ,  回転速度 ,  PIV【流速測定】

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  流体動力学一般  (BC02010G) ,  層流,乱流,境界層  (BC02030C)

タイトルに関連する用語 (3件)： 洗浄 ,  モデル ,  渦構造