ギ酸の脱水素化に用いる触媒、ギ酸の脱水素化方法、水素製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：塩田伸
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2014079860
公開番号（公開出願番号）：WO2015-076156
出願日： 2014年11月11日
公開日（公表日）： 2015年05月28日
要約：

水中等の溶液中でのギ酸の脱水素化による常圧あるいは高圧の水素の製造を高効率・高エネルギー効率・高選択的・高耐久性で行うことのできる触媒の提供を課題とするものであり、その触媒は、式(1)で表される単核錯体、その異性体、または塩を有効成分として含むことを特徴とする。【化1】式(1)において、Xは、水分子、水素原子、アルコキシドイオン、水酸化物イオン、ハロゲン化物イオン、炭酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、ギ酸イオン、もしくは酢酸イオン等の任意の配位子であるか、または存在せず、nは、正の整数、0、または負の整数である。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

式(1)で表される単核錯体、その異性体、または塩を有効成分として含む、ギ酸の脱水素化反応に用いる触媒。

IPC (2件)：

B01J 31/22 , C01B 3/26

FI (2件)：

B01J31/22 M , C01B3/26

Fターム (41件)：

4G140DA02 , 4G140DC03 , 4G140DC07 , 4G169AA06 , 4G169BA27A , 4G169BA27B , 4G169BA36A , 4G169BB08A , 4G169BB10A , 4G169BB12A , 4G169BB14A , 4G169BB16A , 4G169BC74A , 4G169BC74B , 4G169BD01A , 4G169BD02A , 4G169BD03A , 4G169BD04A , 4G169BD07A , 4G169BD12A , 4G169BD13A , 4G169BD14A , 4G169BD15A , 4G169BE01A , 4G169BE01B , 4G169BE06A , 4G169BE08A , 4G169BE16A , 4G169BE16B , 4G169BE34A , 4G169BE36A , 4G169BE36B , 4G169BE41A , 4G169BE41B , 4G169BE45A , 4G169BE48A , 4G169CB81 , 4G169DA02 , 4G169EC27 , 4H050AA03 , 4H050AB40

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