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J-GLOBAL ID：201802227342783022   整理番号：18A0632058

分子イオン注入エピウェーハの製品特性(2)-CH₂P分子注入領域における水素の脱離・吸着挙動の解析-

著者 (9件)： 奥山亮輔 (SUMCO) ,  柾田亜由美 (SUMCO) ,  小林弘治 (SUMCO) ,  重松理史 (SUMCO) ,  廣瀬諒 (SUMCO) ,  門野武 (SUMCO) ,  古賀祥泰 (SUMCO) ,  奥田秀彦 (SUMCO) ,  栗田一成 (SUMCO)
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 65th  ページ： ROMBUNNO.18p-D103-2  発行年： 2018年03月05日 
JST資料番号： Y0054B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： イメージセンサ ,  *イオン ,  *イオン注入 ,  基板 ,  ケイ素 ,  *水素 ,  *熱処理 ,  固体内拡散 ,  二次イオン質量分析 ,  *有機リン化合物 ,  炭素化合物 ,  水素化物 ,  *濃度分布 ,  保護膜 ,  脱着 ,  吸着 ,  CMOSイメージセンサ ,  分子イオン
準シソーラス用語： SIMS【質量分析】 ,  固相拡散 ,  *多元素分子イオン ,  脱離

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体の放射線による構造と物性の変化  (BK16123E)

タイトルに関連する用語 (8件)： 分子イオン ,  注入 ,  分子 ,  水素 ,  脱離 ,  吸着 ,  挙動 ,  解析