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J-GLOBAL ID：201802283337393723   整理番号：18A1012814

タンニン酸を基盤とした高感度,高解像度極端紫外線用レジスト材料の開発

著者 (2件)： 大堀静也 (関西大 化学生命工) ,  工藤宏人 (関西大 化学生命工)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 67  号： 1  ページ： ROMBUNNO.2C21  発行年： 2018年05月08日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *フォトレジスト ,  *極端紫外線 ,  フォトリソグラフィー ,  開発 ,  高感度 ,  高分解能 ,  シクロアルカン ,  架橋化合物 ,  *薄膜成長 ,  耐熱性 ,  EUVレジスト ,  アダマンタン誘導体
準シソーラス用語： 材料開発 ,  高解像度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： タンニン酸

タイトルに関連する用語 (7件)： タンニン酸 ,  基盤 ,  高感度 ,  高解像度 ,  極端紫外線 ,  レジスト材料 ,  開発