ギ酸の脱水素化に用いる触媒、ギ酸の脱水素化方法、水素製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：塩田伸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-023764
公開番号（公開出願番号）：特開2018-126737
出願日： 2018年02月14日
公開日（公表日）： 2018年08月16日
要約：

【課題】高濃度ギ酸溶液中高温反応条件でも、高効率・高エネルギー効率・高選択的・高耐久性なギ酸の脱水素化による水素の製造が可能な触媒の提供。【解決手段】触媒は、式(22)で表されるピラゾール環とピリジン環とからなる2座配位子をもつ錯体、その異性体又は塩を有効成分として含む。。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(10)で表されるピラゾール環とピリジン環とからなる2座配位子をもつ錯体、その異性体、または塩を有効成分として含む、ギ酸または/およびギ酸塩の脱水素化反応に用いる触媒。

IPC (2件)：

B01J 31/22 , C01B 3/22

FI (2件)：

B01J31/22 M , C01B3/22 Z

Fターム (36件)：

4G140DA02 , 4G140DB05 , 4G140DC01 , 4G140DC03 , 4G169AA06 , 4G169BA27A , 4G169BA27B , 4G169BA36A , 4G169BB10A , 4G169BB10B , 4G169BC71B , 4G169BC74A , 4G169BC74B , 4G169BE01A , 4G169BE01B , 4G169BE04A , 4G169BE04B , 4G169BE06A , 4G169BE07A , 4G169BE08A , 4G169BE13A , 4G169BE13B , 4G169BE14A , 4G169BE16A , 4G169BE16B , 4G169BE22A , 4G169BE33A , 4G169BE37A , 4G169BE38 , 4G169BE38B , 4G169BE41B , 4G169CB07 , 4G169CB81 , 4H050AA01 , 4H050AA03 , 4H050AB40

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