特許
J-GLOBAL ID：201803009807622245
有機半導体素子及びその製造方法、有機半導体膜形成用組成物、並びに、有機半導体膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
特許業務法人太陽国際特許事務所
, 野口 恭弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-023358
公開番号（公開出願番号）：特開2016-146435
特許番号：特許第6274529号
出願日： 2015年02月09日
公開日（公表日）： 2016年08月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式1で表され、かつ、分子量が3,000以下である化合物を含む半導体活性層を有することを特徴とする
有機半導体素子。
式1中、
Xは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又はテルル原子を表し、
Yはそれぞれ独立に、CR5、硫黄原子又は窒素原子を表し、Zはそれぞれ独立に、CR5、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、窒素原子又はNR6を表し、2つのYは互いに同じでも異なっていてもよく、2つのZは互いに同じでも異なっていてもよく、
ただし、Yが硫黄原子である場合、Zは窒素原子であり、
Y及びZを含む環はいずれも芳香族ヘテロ環であり、
R1及びR2とY及びZを含む芳香族ヘテロ環とは、下記二価の連結基群Aを介して結合してもよく、
R3及びR4とベンゼン環とは、下記二価の連結基群Aを介して結合してもよく、
二価の連結基群Aは、-O-、-S-、-NR7-、-CO-、-SO-若しくは-SO2-のいずれかの二価の連結基、又は、これらの二価の連結基が2以上結合した二価の連結基を表し、
m及びnはそれぞれ独立に、0〜2の整数であり、
R1及びR2はそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、
R1及びR2の炭素数がそれぞれ独立に、1〜30であり、
R3及びR4はそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、R3が2つの場合は互いに同じでも異なっていてもよく、R4が2つの場合は互いに同じでも異なっていてもよく、
R5、R6及びR7はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロアリール基を表す。
IPC (6件)：
H01L 51/30 ( 200 6.01)
, H01L 51/05 ( 200 6.01)
, H01L 51/40 ( 200 6.01)
, H01L 29/786 ( 200 6.01)
, H01L 21/336 ( 200 6.01)
, C07D 495/14 ( 200 6.01)
H01L 29/28 250 H
, H01L 29/28 100 A
, H01L 29/28 310 J
, H01L 29/78 618 B
, H01L 29/78 618 A
, C07D 495/14 Z
