特許
J-GLOBAL ID：201803013075229453
シロキサン化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
平川 明
, 石丸 竜平
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-127715
公開番号（公開出願番号）：特開2016-008176
特許番号：特許第6311983号
出願日： 2014年06月20日
公開日（公表日）： 2016年01月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記式(A-1)、(A-2)、又は(A-3)で表されるヒドロシラン化合物と下記式(B-1)、(B-2)、又は(B-3)で表されるシラノール化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程を含むシロキサン化合物の製造方法であって、
前記縮合工程が、下記式(C)で表されるニッケル化合物を触媒として用いる工程である、シロキサン化合物の製造方法。
(式(A-1)、(A-2)、及び(A-3)中、R1はそれぞれ独立して炭素数1〜10の炭化水素基を表す。)
(式(B-1)、(B-2)、及び(B-3)中、R2はそれぞれ独立して水素原子、または炭素数1〜10の炭化水素基を表す。)
(式中、R3はそれぞれ独立して水素原子、またはハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも1種を含んでいてもよい炭素数1〜20の炭化水素基を表す。)
IPC (2件)：
C07F 7/08 ( 200 6.01)
, B01J 31/22 ( 200 6.01)
C07F 7/08 X
, B01J 31/22 Z
