特許
J-GLOBAL ID:201803018602945369
ヒドロシランの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
平川 明
, 佐貫 伸一
, 石丸 竜平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2017-013123
公開番号(公開出願番号):特開2018-118941
出願日: 2017年01月27日
公開日(公表日): 2018年08月02日
要約:
【課題】穏和な条件下でヒドロシランを効率良く製造することができるヒドロシランの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】イットリウム原子(Y)、ジルコニウム原子(Zr)、及びハフニウム原子(Hf)からなる群より選択される少なくとも1種の原子を中心金属とする錯体の存在下で下記式(a)で表される構造を有するアルコキシシランをヒドロボラン及び/又は水素と反応させることにより、ヒドロシランを効率良く製造することができる。 (式(a)中、Rは炭素原子数1〜20の炭化水素基を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
イットリウム原子(Y)、ジルコニウム原子(Zr)、及びハフニウム原子(Hf)からなる群より選択される少なくとも1種の原子を中心金属とする錯体の存在下、下記式(a)で表される構造を有するアルコキシシランと、ヒドロボラン及び/又は水素とを反応させて下記式(c)で表される構造を有するヒドロシランを生成する反応工程を含むことを特徴とするヒドロシランの製造方法。
IPC (3件):
C07F 7/08
, C07F 7/04
, B01J 31/22
FI (3件):
C07F7/08 C
, C07F7/04 H
, B01J31/22 Z
Fターム (34件):
4G169AA06
, 4G169AA11
, 4G169BA21A
, 4G169BA21B
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BC40A
, 4G169BC40B
, 4G169BC51A
, 4G169BC51B
, 4G169BC52A
, 4G169BC52B
, 4G169BE01A
, 4G169BE01B
, 4G169BE04A
, 4G169BE04B
, 4G169BE07B
, 4G169BE32A
, 4G169BE32B
, 4G169BE37B
, 4G169BE46B
, 4G169BE48B
, 4G169CB02
, 4G169CB61
, 4H039CB20
, 4H039CB40
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ07
, 4H049VR11
, 4H049VR23
, 4H049VS21
, 4H049VT07
, 4H049VU36
引用特許:
引用文献:
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